NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印）

zui大75毫米直径压印面积  热压印

加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟

NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）

zui大75毫米直径压印面积  热压印和紫外压印

加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟

58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制

NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印）

标配4英寸,6或8英寸压印面积可选  热压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟

NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）

标配4英寸,6或8英寸压印面积可选  热压印和紫外压印

加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟

200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制

NX-2500

多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统

标配4英寸,6或8英寸压印面积可选

热压印和紫外压印

加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟

200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制

带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印

对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台

分场光学和CCD相机

NX-2600

多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统

可选背面对准

标配4英寸,6或8英寸压印面积可选

热压印和紫外压印

加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟

200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制

带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印

对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台

分场光学和CCD相机

标配5”模板,标配4”直径基板  其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源

Lumina200多功能高精度光刻机

4寸基板，5寸掩膜

Ultra-100多功能集成清洁和单分子层气态镀膜系统

Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc)  Up to 8”×8”