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NX-B100多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印）
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zui大75毫米直徑壓印面積 熱壓印
加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘
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NX-B200多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印和紫外壓印）
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zui大75毫米直徑壓印面積 熱壓印和紫外壓印
加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘
58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制
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NX-1000多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印）
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標配4英吋,6或8英吋壓印面積可選 熱壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘
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NX-2000多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印和紫外壓印）
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標配4英吋,6或8英吋壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印
加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘
200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制
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NX-2500
多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印系統
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標配4英吋,6或8英吋壓印面積可選
熱壓印和紫外壓印
加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘
200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制
帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印
對準模塊 <1μm 3σ對準準確率 X, Y, Z, Theta平台
分場光學和CCD相機
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NX-2600
多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印和高分辨率光刻系統
可選背面對準
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標配4英吋,6或8英吋壓印面積可選
熱壓印和紫外壓印
加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘
200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制
帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印
對準模塊 <1μm 3σ對準準確率 X, Y, Z, Theta平台
分場光學和CCD相機
標配5”模板,標配4”直徑基板 其他尺寸可以提供500瓦紫外水銀燈光源
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Lumina200多功能高精度光刻機
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4寸基板，5寸掩膜
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Ultra-100多功能集成清潔和單分子層氣態鍍膜系統
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Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc) Up to 8”×8”
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