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NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印）
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zui大75毫米直径压印面积 热压印
加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟
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NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）
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zui大75毫米直径压印面积 热压印和紫外压印
加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟
58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
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NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印）
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标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟
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NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）
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标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印
加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟
200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
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NX-2500
多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统
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标配4英寸,6或8英寸压印面积可选
热压印和紫外压印
加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟
200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印
对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台
分场光学和CCD相机
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NX-2600
多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统
可选背面对准
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标配4英寸,6或8英寸压印面积可选
热压印和紫外压印
加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟
200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印
对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台
分场光学和CCD相机
标配5”模板,标配4”直径基板 其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源
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Lumina200多功能高精度光刻机
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4寸基板，5寸掩膜
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Ultra-100多功能集成清洁和单分子层气态镀膜系统
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Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc) Up to 8”×8”
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